Sick Process Automation: lo specialista per i gas UV-absorbing

Pubblicato il 12 ottobre 2010

Defor utilizza le caratteristiche ottiche del gas all’interno della gamma spettrale ultravioletta e analizza fino a tre componenti contemporaneamente. Defor è esente da interferenze e ciò rende più semplice ottenere misurazioni esatte in molte applicazioni. Su turbine a gas, nelle centrali elettriche, impianti DeNOx e unità di desolforazione, Defor controlla anche limiti di soglia molto bassi.

Oltre che per la misurazione di concentrazioni molto basse di NO, Defor può essere utilizzato anche per l’identificazione di NO2: non è più necessario utilizzare un rivelatore a chemiluminescenza (Cld) o un convertitore di NO2. Il software “intelligente” di Defor è in grado di elaborare sia concentrazioni misurate separatamente (NO e NO2), sia il valore totale di NOx. Ciò riduce gli investimenti di capitali e i costi operativi. È anche possibile misurare SO2 come terzo componente, in piccole concentrazioni.

Defor può essere utilizzato in combinazione con altri moduli di analisi Sick. Utilizzando un sensore O2 paramagnetico e un rivelatore di conducibilità termica, possono anche essere misurati l’ossigeno e l’idrogeno. Beneficiano di questo particolare le aziende chimiche e petrolchimiche. È possibile monitorare i singoli componenti nelle operazioni di produzione, per esempio il cloro nella produzione di materie plastiche, e individuare i componenti di zolfo nella produzione di acido solforico o gas naturale.

Defor misura la concentrazione del gas attraverso l’assorbimento dei raggi UV. Una lampada a scarica di elettrodi, emette sia raggi specifici per ossidi di azoto, sia raggi ad ampia banda. Utilizzando dei filtri interferenziali si seleziona la miglior lunghezza d’onda per la misura da effettuare. A questo punto il fascio UV viene diviso in due. Uno viene mandato alla cella di misura gas campione, l’altro alla cella di misura del gas di riferimento. In uscita dalle due celle si trovano i due rilevatori, che rielaborano il segnale.

Il sistema esegue anche un calcolo elettronico di sensibilità trasversale. Questo metodo di misurazione assicura selettività e sensibilità, mantenendo allo stesso tempo il fotometro di processo altamente stabile. In confronto ad altre fonti UV esistenti, la durata di questa lampada è stata prolungata in modo significativo.

Utilizzando le cuvette interne (opzionali) di calibrazione, gli operatori non hanno più bisogno di usare gas di prova esterno. La regolazione viene effettuata con cuvette interne in grado di ruotare in posizione, o in maniera manuale, o in maniera automatica. Il sistema di elaborazione del segnale facilita la stabilità nel lungo periodo. Tutte le possibili derive e gli effetti che possono influenzare la misura, vengono compensati. Grazie all’elettronica e al software all’avanguardia, è facile effettuare attraverso le reti, il monitoraggio da remoto e l’integrazione nei sistemi di controllo di processo. Anche la manutenzione è semplice da eseguire, dal momento che Defor è costruito su base modulare con singoli gruppi.

La funzione logbook con rapporti di stato rende semplice anche la risoluzione dei problemi. Il fotometro Defor è disponibile in versione a rack 19“ slide-in unit e in un wall cabinet per l’utilizzo in condizioni difficili. Il wall cabinet è progettato per l’uso nel settore chimico. Le parti elettroniche sono separate dalla sezione analisi da una guarnizione a tenuta di gas. Il rischio di danni ai circuiti elettronici causati da gas corrosivi o aggressivi è escluso. Inoltre può essere utilizzato un sistema di purga a parte per una pulizia ancora più efficace.

Per l’utilizzo in aree a rischio di esplosione il fotometro Defor è disponibile nella versione per Zona I e Zona II.

Sick: www.sick.it

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